ネガ型レジストとポジ型レジストの違いとは?【半導体プロセス】

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ハナハナ
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ネガ型レジストとポジ型レジストについて解説します!

今回は、「ネガ型レジストとポジ型レジストの違い」について解説していきます。

半導体のレジストについて全く知らない方、異分野から半導体製造工程に関わることになった方など、初心者向けの記事になります。

この記事は、こんな人にオススメ!

・「ネガ型レジストとポジ型レジストの違い」について知りたい

・半導体プロセスについて知りたい

・半導体製造工程に関わることになった

ネガ型レジストとポジ型レジストの違いとは?

半導体プロセスでは、主に基板を加工する時の保護膜として「レジスト」と呼ばれる感光性樹脂が使用されています。

レジストには、大きく分けて「ネガ型レジスト」と「ポジ型レジスト」の2種類が存在します。

以下、 「ネガ型レジスト」と「ポジ型レジスト」 の違いについて簡単に説明いたします。

「ネガ型レジスト」 とは?

「ネガ型レジスト」は、露光工程で光が当たった箇所が硬化し水に不溶になります。

つまり、光が当たった箇所のレジストが現像工程後に残るのが「ネガ型レジスト」です。

覚え方としては、「ネガ」はネガティブで冷たいイメージがあるので、光が当たった部分が冷たくなって固まると考えることができます。

「ポジ型レジスト」 とは?

「ポジ型レジスト」 は、 露光工程で光が当たった箇所が水溶性になって水に溶けます。

つまり、光が当たった箇所のレジストが現像工程後に無くなるのが「ポジ型レジスト」です。

「ポジ型レジスト」の覚え方としては、「ポジ」は ポジティブで温かいイメージがあるので、光が当たった箇所が熱くなって溶けると考えるといいです。(厳密には光が当たった箇所だけ水溶性になる。)

以上が「ネガ型レジストとポジ型レジストの違い」の解説になります。

「レジストの意味・用途」と、レジストが使用されている「フォトリソグラフィ工程」については以下で解説していますので、興味がある方はぜひ見てみて下さいね。

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以上、 「ネガ型レジストとポジ型レジストの違い」 についての説明でした。

ハナハナが参考にしている半導体関連本

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最後まで読んで頂き、ありがとうございました。

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