ネガ型レジストとポジ型レジストについて解説します！
今回は、「ネガ型レジストとポジ型レジストの違い」について解説していきます。
半導体のレジストについて全く知らない方、異分野から半導体製造工程に関わることになった方など、初心者向けの記事になります。
・「ネガ型レジストとポジ型レジストの違い」について知りたい
・半導体プロセスについて知りたい
・半導体製造工程に関わることになった
ネガ型レジストとポジ型レジストの違いとは？
半導体プロセスでは、主に基板を加工する時の保護膜として「レジスト」と呼ばれる感光性樹脂が使用されています。
レジストには、大きく分けて「ネガ型レジスト」と「ポジ型レジスト」の2種類が存在します。
以下、 「ネガ型レジスト」と「ポジ型レジスト」 の違いについて簡単に説明いたします。
「ネガ型レジスト」 とは？
「ネガ型レジスト」は、露光工程で光が当たった箇所が硬化し水に不溶になります。
つまり、光が当たった箇所のレジストが現像工程後に残るのが「ネガ型レジスト」です。
覚え方としては、「ネガ」はネガティブで冷たいイメージがあるので、光が当たった部分が冷たくなって固まると考えることができます。
「ポジ型レジスト」 とは？
「ポジ型レジスト」 は、 露光工程で光が当たった箇所が水溶性になって水に溶けます。
つまり、光が当たった箇所のレジストが現像工程後に無くなるのが「ポジ型レジスト」です。
「ポジ型レジスト」の覚え方としては、「ポジ」は ポジティブで温かいイメージがあるので、光が当たった箇所が熱くなって溶けると考えるといいです。(厳密には光が当たった箇所だけ水溶性になる。)
以上が「ネガ型レジストとポジ型レジストの違い」の解説になります。
「レジストの意味・用途」と、レジストが使用されている「フォトリソグラフィ工程」については以下で解説していますので、興味がある方はぜひ見てみて下さいね。
以上、 「ネガ型レジストとポジ型レジストの違い」 についての説明でした。
ハナハナが参考にしている半導体関連本
最後まで読んで頂き、ありがとうございました。
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